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  通過SEM高分辨率成像和能譜分析(EDS)，可直觀觀察樣品表面形貌及顆粒分布情況。與共沉淀法制備的二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑(CZZC-CP)呈現(xiàn)大尺寸不規(guī)則團聚體不同，圖4b中CZZC-3DOM法制備的二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑顯示了一種獨特的三維有序大孔結構，表明三維大孔二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑的成功制備。在模板法合成過程中，PMMA經(jīng)熱分解去除后，促使二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑形成三維有序貫通孔道。對于CZZC-3DOM法制備的二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑，孔道結構明顯且沒有觀察到金屬顆粒明顯的聚集現(xiàn)象，這表明二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑組分得到了良好的分散。這種結構會起到降低傳質(zhì)阻力與強化界面接觸的雙重作用，從而優(yōu)化了活性位點的空間可及性，使得反應物分子在多級孔道內(nèi)的擴散動力學與活性組分表面微環(huán)境形成有效藕合，因此CZZC-3DOM法制備的二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑催化性能更佳。
  通過TEM觀察二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑的微觀形貌和元素分布情況。如圖5所示，CZZC-3DOM法制備的二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑的TEM結果呈現(xiàn)出較為均勻的孔道結構，且Ce02顆粒均勻分布在大孔骨架的表面和孔道內(nèi)部。在元素面掃結果中得到了進一步驗證，二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑組分Cu,Zn, Zr和Ce保持了良好的分散性，這也與SEM的結果相對應。
  上述SEM和TEM結果可進一步結合XRD表征，如圖6所示。共沉淀法制備的CZZC-CP ,CZZ-CP中Cu的衍射峰較為尖銳，相比之下樣品CZZC-3DOM反應前后Cu的衍射峰則沒有那么尖銳，這表3DOM三維大孔結構通過其高孔隙率和有序孔道網(wǎng)絡，顯著抑制Cu顆粒在燒結過程中的遷移與團聚。此外，對于樣品CZZC-3DOM反應前后在47.5。和56.30處沒有觀察到明顯的Ce0:的衍射峰，這表明Ce0分布良好。XRD的結果驗證了SEM和TEM結果，表明CZZC-3DOM二氯丙烷生產(chǎn)廠家催化劑具有較好的結構穩(wěn)定性。http://www.woxdaf.cn/